Positiv 20 - Фоточувствительный фото-позитивный лак (фоторезист)

Смотри подробное описание по ссылке...

KONTAKT CHEMIE Positive 20 - Жидкий фото-позитивный резист на основе о-нафтохинондиазида и новолака1 (разновидность фенол-формальдегидной смолы) используется преимущественно в производстве печатных плат в радиоэлектронике.

Позитив 20 - классический жидкий фоторезист, который переносит шаблоны рисунков печатных плат непосредственно на рабочую поверхность плат для последующего их травления. Лаковая пленка Позитива очень устойчива к сильным кислотам и препаратам для травления, однако легко удаляется растворителями (амил-, бутил- и этилацетаты, кетоны, ацетон) или растворами щелочи. Фоторезист имеет наибольшую фоточувствительность к ближнему ультрафиолету (длина волны 340-420 нм). Тем не менее, лак следует наносить при желтом свете или затемненном дневном свете.

Свойства:

Применение:

Указания по использованию (при изготовлении печатных плат):

Возможные дефекты и причины их появления:

1. Плохая адгезия лака, вздутия и пузыри на поверхности, мелкие точки на поверхности слоя


2. Пористая структура слоя

Другие сферы применения POSITIVE 20:

Предупреждения:

Технические характеристики (без учета вытеснителя): Расход средства: Заводская упаковка: 1 - НОВОЛАК (новолачная смола), термопластичная феноло-формальдегидная смола; твердое вещество от светло-желтого до темно-коричневого цвета. Отверждается только в присутствии отвердителей. Применяют в производстве пресс-материалов, литейных форм, лаков, пенопластов.

2 - Плавиковая кислота является сильным растворителем, способным растворять слекло. Это свойство кислоты используется для нанесения на стекло различных надписей и рисунков. После травления, в месте контакта стекла с кислотой поверхность стекла становится матовой и шероховатой. Реакция травления стекла может быть представлена следующей формулой: SiO2 + 4HF = SiF4 + 2H2O